Bor Nitrürün Kimyasal Buhar Faz Sentezi

1979'da Sokolowski, düşük sıcaklıkta ve düşük basınçta kübik bor nitrür (CBN) filmleri hazırlamak için darbeli plazma teknolojisini başarıyla kullandı. Kullanılan ekipman basittir ve işlemin gerçekleştirilmesi kolaydır, bu nedenle hızla geliştirilmiştir. Çeşitli buhar biriktirme yöntemleri ortaya çıkmıştır. Geleneksel olarak konuşursak, esas olarak termal kimyasal buhar biriktirmeye atıfta bulunur. Deneysel cihaz genellikle ısıya dayanıklı bir kuvars tüp ve bir ısıtma cihazından oluşur. Substrat, bir ısıtma fırını (sıcak duvar CVD) veya yüksek frekanslı indüksiyonlu ısıtma (soğuk duvar CVD) ile ısıtılabilir. Reaksiyon gazı, yüksek sıcaklıktaki substratın yüzeyinde ayrışır ve aynı zamanda, bir filmi çökeltmek için kimyasal bir reaksiyon meydana gelir. Reaksiyon gazı karışık bir BCl gazıdır.₃ veya B₂H₄ve NH₃.